解决硅化钽半导体的峰重叠

钽硅化物作为氧化或耐温涂层材料，被广泛的应用于微电子和光学器件。在半导体材料（如硅片）中，钽硅化物也常常充当耐火材料。

为了在质量控制中实现高空间分辨率，必须以低加速电压对材料进行分析，而这个前提常常让次要物相的识别变得困难。在低加速电压下,样品中只产生助教M线系,而Ta的M线系会与基板如果Kα线系谱峰发生严重重叠。

最终我们得到的eds峰值相较主要元素的理论峰值略有变宽，并掩盖了第二个元素的存在。相比之下，使用Quantax WDS可以成功剥离Ta元素，因为WDS相比EDS的分辨率更为优越。