半导体硅化钽中峰重叠的解析

硅化钽用于微电子和光学领域的抗氧化或耐高温涂层。硅化钽也可以作为耐火相出现在半导体材料中，如硅晶圆。

为了在质量控制期间实现高空间分辨率，分析必须在低加速电压下进行，使小相位的识别复杂化。在较低的加速电压下，只产生Ta M系列能量线，并与衬底Si Kα线严重重叠。

由此产生的主要元素的EDS峰略有加宽，并掩盖了第二元素的存在。通过比较，采用置信度识别了Ta等元素QUANTAX改进算法由于其卓越的峰值分辨率。