半导体米酰胺中的峰值重叠

米酰胺用于微电子和光学元件中，用于氧化或耐温涂层。在半导体材料（例如Si晶片）中，硅质剂也可能作为难治阶段发生。

为了在质量控制过程中实现高空间分辨率，必须以低加速电压进行分析，从而使次要相的识别变得复杂。在低加速电压下，仅产生与基板SiKα线严重重叠的TA M串联能量线。

主要元素的结果EDS峰略有宽阔，并掩盖了第二个元素的存在。相比之下，使用诸如TA之类的元素使用Quantax WDS由于其优异的峰值分辨率。