塔塔尔硅烷 - 汉堡峰峰

Tantalsilizid wirdfür氧化 - 在Mikroelelektronik和Optik eingesetzt中，Oder温度beschichtungen。Tantalsilizid Kann Auch AlsRefraktäre阶段在halbleitermaterialienienialien wie silizium-wafern auftreten中。

Um Bei derQualitätskontrolleEine HoheräumlicheauflösungzungZu Erreichen，MüssenDie Analysen Bei niedrigen beschleunigungungungungungungungungungungungennungendurchgeggeführtwerden，是Die dieifizierung untergeordneterneterneterneter phasen phasen erscherchwert。Bei niedrigen beschleunigungsspannungen werden nur dieröntgen-energielinien der ta-m-serie angeregt，die mit nur 27 ev代表sehr sehr nah an der si-k-linie des substrats liegen liegen。

DIE RESURTIERENDENDEDS-PEAKSDERPRIMäRelementeWerden Durch Die Die Peak-überlappungLeicht verbreitert，Kaschieren Aber die die anwesenheit des Zweiten元素。Im Vergleich Dazu Werden Elemente Wie ta Mit DemQuantax WDSAufgrund SeinerüberlegenenFähigkeitZur-auflösungsungSicher标识。