纳米技术-萨克斯-蜡-吉斯萨克斯
NANOSTAR具有无可比拟的模块化,是通过小角度x射线散射(SAXS)、掠射小角度x射线散射(GI-SAXS)、广角x射线散射(WAXS)和纳米技术表征纳米结构和纳米结构表面的理想工具。镜面条件下的针孔准直系统可产生平行的、理想的圆光束形状,具有高强度和低寄生散射。超大(XL)样品室可容纳各种专用和第三方样品台,在所有条件下测量许多样品类型。最后用大、低背景、高灵敏度的二维各向同性和各向异性检测器采集散射信号。
胶体
金属
聚合物
纳米表面
这种独特的x射线源提供了非常稳定和强烈的点聚焦x射线束,而不需要水冷却。由于其坚固的设计,该源具有3年的保修期。IµS包括集成MONTEL,最先进的二维光束整形光学,样品上的最高强度。这种并排的多层镜面设计捕获了来自光源的大立体角x射线,并有效地在高度平行和单色光束中重定向。
这种方便的超大(XL)样品室有许多额外的馈电通过端口,可以在真空,惰性气体或大气条件下操作。它可以容纳许多额外的标准组件,用于多个样本的个性化处理,以及第三方和定制阶段,以获得最大的可视性。具有大平移范围的电动X-Y工作台和二级电动参考样品保持轮,使自动样品校准和参考和背景扫描一气凌人!
带有Mikrogap的VANTEC-500二维探测器TM该技术满足了专用SAXS系统的所有理想要求。首先,不需要煤气,水,或例行维护,不担心强烈的辐射或运动损伤,使探测器是坚固的,非常容易使用。一个大的活动区域(直径14厘米),使巨大的角度覆盖与全视野。难以置信的低背景和高最大计数率的奇妙的动态范围和灵敏度的弱散射样本。优秀的空间分辨率,解决紧密间隔的散射特征。没有其他检测器能够为这些应用程序提供这些理想功能的组合。bob平台靠谱吗
我µS micro focus来源
XL的样品室
vantec - 500 2 d检测器
小角度x射线散射(SAXS)是由粒子嵌入不同电子密度的基体中所引起的一种现象。如果粒径在1 nm到200 nm之间,散射角在0°到5°之间,这取决于所使用的x射线波长。粒子越小,散射角越宽。
任何介质中粒子的任何排列都显示出电子密度的差异,这在执行SAXS实验时产生了特定的模式。除了粒子的大小,SAXS还可以确定它们的形状,它们之间的距离和大小分布从2-D模式。颗粒可以是溶解的大分子,金属中的沉淀,生物组织中的矿物颗粒和表面活性剂胶束。
与SAXS相比,广角x射线散射(WAXS)在埃水平上检查结构,这通常是晶体结构的平面间距离。WAXS通常用于分析布拉格x射线衍射(XRD)图,它可以帮助确定晶体结构、结晶度、晶体大小和相组成(相ID)。WAXS数据可以与SAXS数据同时(同时)收集,第二个检测器位置更接近样品。
为了探测地表和地下结构细节,样品采用掠入射几何方法进行测量。入射角接近所谓的全反射临界角,通常在0.1到0.7度之间。在掠入射小角x射线散射(gisax)实验中,利用二维探测器在非共面方向上采集散射强度。
一个专用的GI-SAXS平台,带有电动倾斜,用于校准样品在光束中的位置。
纳米成像研究利用集成到NANOSTAR样品室的电机驱动XY级。这样就可以通过x射线束自动扫描样品的选定区域。强度分布(或其他散射参数)可以用彩色编码的等高线图显示。
纳米技术允许对不均匀样品的相关测量点进行快速和选择性的检测,甚至允许对小样品进行精确定位。完整的纳米图像本身的每一个单独的点代表由二维收集的SAXS/WAXS的积分强度。
粉煤灰:PVDF
Nanography:木材切片
粉煤灰:胶束样品
粉煤灰:胶原纤维
功能 |
规范 |
好处 |
我µS micro focus来源 |
风冷,高强度,微聚焦x射线源 |
低功耗(30W) 3年标准质保 不需要冷水机 高功率密度导致强度增加 集成蒙特尔镜的理想光束调节 |
SCATEX小孔 |
理想的圆形光束形状,可忽略寄生背景散射。 |
无寄生孔径边缘散射 更高的分辨率/更高的通量 更紧凑的准直波束路径允许更长的探测器距离 容易,稳定,针孔对齐 |
XL的样品室 |
超大室,带有电动xy级,用于样品定位,测绘和容纳多功能标准和第三方stage。 |
内部尺寸:287毫米× 501毫米× 380毫米(宽×高×深) 用于附加电源连接的法兰 x -工作台,80毫米x 130毫米平移 电动参考样品轮 在真空、空气或惰性气体环境中操作 |
vantec - 500 2 d检测器 |
活动面积大,背景低,灵敏度高的二维探测器 |
大的活动区域(直径14厘米)全帧视图SAXS/WAXS散射图像 非常低的背景,最高的灵敏度 卓越的空间分辨率(68微米像素大小) 免维护(不需要水/空气或对强主束或偏压下的探测器运动敏感) |