在某些Fe-Sems的沉浸式/UHR模式下启用纳米级TKD映射
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最近的大规模采用纳米技术引发了扫描电子显微镜（SEM）最高分辨率的种族。实现最终空间分辨率的一种方法使用磁性浸入镜头。以前，使用浸入式镜头使方向映射不可能。这是因为镜头产生的磁场会干扰柯克基图案（TKP）收集和分析过程。干扰有两个主要组成部分：
- 散射电子受到SEM光轴周围狭窄空间的约束（请参见下面的TKP“带有场”）。
- kikuchi模式被磁场扭曲，旋转和移动。
其次，由磁场在TKPS中的存在造成的重型扭曲，使无法准确的频带检测。为了纠正扭曲并补偿TKPS中的旋转和偏移，我们开发了一种新的软件功能（专利待处理），称为ESPRIT FIL TKD（Full Immersion Lens TKD）。该功能易于校准，并已完全集成到自动地图获取过程中ESPRIT 2软件。
FIL TKD特征与轴上TKD的组合可以在其超高分辨率模式下运行时使用高端FE-SEM的准确取向映射，即浸入浸入式晶状体。
图1A：在存在磁场的情况下使用轴上TKD几何形状获得的未校正传输Kikuchi模式（TKP）
图1B：使用FIL-TKD校正后的图1（左）TKP
图1C：与图1（中心） - 从同一晶粒中获取但没有磁场的TKP，即浸入透镜无活性
在图2（*）所示的TKD结果中，清楚地看到了这种独特的HW＆SW选项组合的最终结果或好处。图案质量图（左）定性地证明，在激活浸入式镜头时，物理空间分辨率要好得多（非常清晰的特征）。在带有浸入式晶状体的方向图中，可以清楚地看到谷物/特征比10 nm明确的。
图2：从没有磁场的20 nm au薄膜中获取的同一区域的原始轴上TKD图，又称分析模式（TOP）和磁场，又称超高分辨率模式（底部）。使用相同的参数用于探针电流，加速电压，TKD检测器设置和步长大小为3 nm。比例尺代表100 nm。没有将数据清洁应用于方向图。结果由丹麦DTU Nanolab的Alice Da Silva Fanta提供。
（*）此处介绍的结果应定性地采取，而不是作为我们的TKD解决方案和/或某些SEMS的解决方案。相关SEM的沉浸式和非脱水模式之间的TKD地图分辨率和索引质量的差异可能会因模型和/或制造以及房间环境而异，例如温度，地面振动，声学等。