Si-Core-C-Shell硅纳米颗粒的超高分辨率元素映射

对于梁敏感样品（例如SI纳米颗粒）的基于SEM的EDS分析，需要非常低的光束电流和/或非常短的测量时间。当需要高空间分辨率时，必须使用低压来减少电子样本相互作用。对于常规的ED测量，由于诱导的X射线产量非常低，因此需要很长的测量时间，因此这种分析条件具有挑战性。结果是光束诱导的样品漂移，影响空间分辨率。

EDS测量Xflash^®扁平克服这些局限性。独特的几何形状Xflash^®扁平对低X射线屈服材料具有高检测灵敏度，从而在低探头电流下具有高计数速率。就这样Xflash^®扁平检测器是即使在地形上绘制梁敏感材料的理想选择。

该示例提供了硅纳米颗粒的高分辨率图（2 nm的像素间距！）。映射是通过Xflash^®扁平在5 kV，520 PA和377 S的收购时间。结果表明，目前的纳米颗粒的特征是硅芯（绿色）和碳壳（红色）。（数据提供：S.Rades等人，皇家化学协会，2014，4，49577）