FilmTek 3000一样
结合反射-透射分光光度法优化的高吸收模式薄膜
Destaques
FilmTek 3000一样
FilmTek™3000 PAR增强了我们独特的组合反射-透射分光光度计设计，可以对沉积在透明基底上的图案薄膜进行表征，特别是用于光学减反射涂层、激光反射镜和薄金属等的非常薄的吸收膜。
除了完全集成我们的先进和专有的材料建模软件和优化算法，该系统利用我们的专利抛物面镜技术，实现小的光斑尺寸(至50 μ m)，并增强其与图案薄膜样品的兼容性。因此，FilmTek 3000 PAR为图形薄膜表征提供了与FilmTek 3000为无图形薄膜样品提供的相同水平的性能和数据质量，使用户可以轻松地收集具有挑战性的图形薄膜样品的精确、同步反射和传输测量，即使是那些在DUV中高度吸收的样品。
50 μ m点尺寸
reflection-transmission测量
提高了图案薄膜的精度，适用于需要小测量垫的应用。bob平台靠谱吗
多通道
设备解决方案
同时提供反射和传输数据。
专利
光学配置
扩展了FilmTek的反射-透射分光光度法技术的能力，包括图案样品。
了解更多关于这种乐器的知识。
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Caracteristicas
测量功能
允许同时确定:
- 多个层厚度
- 折射率[n(λ)]
- 消光吸收系数[k(λ)]
- 能带隙
- 组成部分,空隙率
- 表面粗糙度
系统组件
标准:
- DUV-NIR光纤分光光度计
- 反射光谱测量
- 光谱传输测量
- 自动对焦的自动舞台
- 用于成像测量定位的摄像机
- 50微米的光斑大小
- 模式识别
- 先进的材料建模软件
- bob电竞安全吗布鲁克广义材料模型与先进的全局优化算法
可选:
- 自动化的样品处理
Aplicacoes
典型应用领域
几乎所有的半透明薄膜的厚度从小于100 Å到大约150 μ m都可以高精度地测量。典型的应用领域包括:
- 光子学和电信
- 平板显示器
灵活的软件可以很容易地修改，以满足研发和生产环境中独特的客户需求。
Especificacoes
技术规格
| 膜厚度范围 | 3 nm至150 μ m |
|---|---|
| 膜厚度精度 | ±1.5 Å NIST可追溯标准氧化物1000 Å到1µm |
| 光谱范围 | 220纳米- 1700纳米(标准为220纳米- 1000纳米) |
| 测量光斑大小 | 25 μ m - 300 μ m (50 μ m标准) |
| 样本大小 | 50毫米- 300毫米(标准为150毫米) |
| 光谱分辨率 | 0.3 - 2nm |
| 光源 | 稳压氘卤素灯(使用寿命2000小时) |
| 探测器类型 | 2048像素Sony线阵CCD / 512像素冷却滨松InGaAs CCD阵(近红外) |
| 电脑 | Windows™10操作系统的多核处理器 |
| 测量时间 | 每个部位(如氧化膜)小于1秒 |
性能规格
| 电影(年代) | 厚度 | 测量参数 | 精度(1σ） |
|---|---|---|---|
| 氧化/ Si | 200 - 500 Å | t | 0.5 |
| 500 - 10000 Å | t | 0.25 | |
| 1000年,一个 | t、n | 0.25 Å / 0.001 | |
| 氮化硅/硅 | 200 - 10000 Å | t | 0.5 |
| 光刻胶/ Si | 200 - 10000 Å | t | 0.5 |
| a-Si /氧化物/ Si | 200 - 10000 Å | t | 0.5 |