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椭圆计和反射计

光谱椭圆光度法

精确,可重复的薄膜和超薄膜测量

概述

表征薄膜厚度和介电性能

光谱椭偏法是一种强大的技术,用于测量具有单个或少量离散层的薄膜和超薄膜(低至<1 Å)。这种技术对薄膜厚度和均匀性非常敏感,可以用来研究几乎任何透明薄膜。它对于超薄膜应用(<100 nm)特别有用,并且可以测量比探测光本身的波长还薄的层,小到小于bob平台靠谱吗单个原子层,超过了基于椭圆偏振和反射测量的类似技术的厚度限制。除了薄膜厚度外,光谱椭偏仪还提供了高度精确,可重复的介电特性(复折射率和介电函数张量)和样品光学常数的测量,可实现折射率分辨率为2 x 103在一些样品上。


FilmTek光谱椭偏仪采用先进的旋转补偿器设计,提供同类最佳的重复性和相对更好的椭偏性能,而不是其他设计-即旋转偏振器和分析椭偏仪。此外,FilmTek光谱椭偏仪(“SE”)产品线从单技术,预算友好型到先进的多模态系统。多模态工具将光谱椭偏仪与其他薄膜计量方法和专有的FilmTek技术相结合,以满足用户在使用具有挑战性的材料和测量要求时的需求,这些要求超出了其他光谱椭偏仪的折射率分辨率、层结构和材料/衬底限制。

使用FilmTek se型仪器收集椭偏数据简单、高效、直观。这些系统配备了我们专有的FilmTek软件和优化算法,能够完全自动化,最大限度地减少了操作停机时间和人工测量校准,数据采集和数据分析过程中固有的人为错误的高潜力,并且与同类椭偏仪不同,不需要手动校准样品。

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