薄膜厚度测定

超薄膜表面功能化和改性在生物污染、传感、防腐、催化等领域发挥着重要作用。这就要求对这些电影进行彻底的调查，以了解和改善电影的生长和功能。使用FTIR光谱有许多化学识别薄膜和涂层的方法。

它们是透过率、衰减全反射(ATR)、优雅角反射率(GIR)或红外反射吸收光谱(IRRAS)、偏振调制红外反射吸收光谱(PMIRRAS)．根据薄膜厚度、光学特性和支撑基片的不同，可以优先采用不同的测量模式。

由于x射线可以穿过物质，x射线荧光(XRF)可以确定层的厚度。使用SEM上的micro-XRF，层分析(厚度和成分)是可行的，在微米尺度的空间分辨率。层分析强烈地基于使用原子基本参数(FP)的定量。通过使用标准样品可以改进它，因此可以用FP研究各种类型的层系统，如晶圆上的金属化，多金属预处理涂层和太阳能电池。阅读更多

所有材料都表现出x射线在某个临界角以下入射时的全反射，其反射强度几乎与直射光束一样大。当测量x射线反射(XRR)时，随着入射角的增加，渗透到材料中导致反射强度急剧下降。因此，XRR数据可以跨越多个数量级。XRR是一种快速，非破坏性的方法来测量薄膜涂层，多层和超晶格的厚度，粗糙度和密度。这些信息可以从镜面干涉图案中提取，并允许表征晶体和非晶薄膜。

氮化镓(GaN)基材料的表征通常使用无损x射线计量。一种主要的宽带隙半导体，GaN及其In/Al等效物被用于许多新器件的衬底上，如高电子迁移率晶体管(hemt)，发光二极管(led)，激光二极管和太阳能，其形式为薄膜外延层，范围从几纳米到微米。器件性能通常与堆叠顺序、层厚、晶体结构和化学成分有关。这些特性可以通过高分辨率x射线衍射(HRXRD)与x射线反射率(XRR)、倒数空间映射(RSM)和高分辨率摇摆曲线(RC)等技术进行研究。