D8发现
高性能xrd
ハ邮箱ラ邮箱ト
D8发现は,最先端のテクノロジーを搭載した多目的X線回折計のフラッグシップモデルです。粉末,非晶質,多結晶材料からエピタキシャル多層薄膜まで,あらゆる材料の構造解析を大気雰囲気や雰囲気制御下で実現できるよう設計されています。
アプリケション:
- ·結晶相同定結晶相定量，構造解析と精密化，結晶子サ
- X線反射率測定(XRR)すれすれ入射回折(GIXRD),面内回折(平面GID),高分解能回折(HRXRD)すれすれ入射小角X線散乱(GISAXS),薄膜応力解析,結晶方位解析(ODF)
- 残留応力解析，集合組織·極点図測定，微小部x線回折(μxrd)，広角x線回折(waxs)
- 全散乱測定:布拉格回折，二体分布関数(PDF)，小角X線散乱(SAXS)
ママケットギャラリ
エネルギ貯蔵·バッテリ
製薬
地質·鉱物
金属材料·機械部品
薄膜分析
特長
主な機能
マ操作系统管理员クロフォ操作系统管理员カスx線源操作系统管理员
2次元多層膜ミラー蒙特尔光学系を採用したマイクロフォーカスX線源我μSは,微小領域や小さなサンプルの分析に最適な高輝度微小平行ビームを形成します。
- 高輝度·低バックグラウンドmmサX線ビム
- 低消費電力，完全空冷，長寿命設計を実現するグリ
- 蒙特尔光学系がビムサム発散を最適化
- bob电竞安全吗布鲁克の豊富なコンポネント，光学系，検出器シリズと完全互換
Umcサンプルステジ
D8发现では,比類のないマッピングエリアとサンプル耐荷重を兼ね備えた数多くの联电ステージを選択できます。
- 最大耐荷重5公斤までのサンプルマッピング
- 最大300mmサereplicationズまでの広域サンプルマッピング
- 最大3つのウェルプレートを搭載できるハイスループットスクリーニング(高温超导)用ウェルプレートチェンジャー联电ステージ
すぐれたモジュールデザインにより,標準的な構成をさらに拡張することで,測定ニーズに応じたカスタマイズが可能です。
マルチモドeiger2r検出器
EIGER2 R 250 kおよび500 kは,実験室のX線回折にシンクロトロン性能をもたらす2 d検出器です。
- 革新的な艾格尔峰の第2世代を含む高度なセンサー設計:75 x75mm²のサイズで最大500.000ピクセルにより,微視的解像度で巨視的カバレッジが可能になります。
- サンプル——検出器間距離の自動認識やツールを用いない検出器搭載方向の切り替えを実現する人間工学デザイン。無段階検出器距離に応じた自動曲率補正機能や0o/ 90o搭載方向の切り替えは最小限の労力で
- 大型検出領域を有効化するパノラミック広域光学系とさまざまなアクセサリ
- 0 d / 1 d / 2 d検出モードに加え,スナップショット,ステップスキャン,連続スキャン,アドバンスドスキャンの測定モードをサポート
- DIFFRAC。套件ソフトウェアに完全かシムレスに統合
·探路者加複合光学系
特許技術の三光学系により,3つの入射側ビームパスをマウスクリックで按钮切り替え。
- 粉体サンプル用集中法布拉格-布伦塔诺光学系
- xrr, gid，キャピラリ測定用高強度kα1、2平行ビム
- エピタキシャル薄膜などの高分解能xrd用kα1平行ビム
探路者+光学系には,自動減衰板に加え2つの受光側ビームパスをマウスクリックで按钮切り替え:
- サンプルアラ邮箱メントや高強度測定用電動可変スリット
- 高分解能測定用アナラ邮箱ザ邮箱結晶
三と探路者+を搭載したD8发现は,粉末サンプル,バルクサンプル,繊維サンプル,シート状サンプル,薄膜(アモルファス,多結晶,エピタキシャル)を含むすべてのサンプル測定に対応しており,光学系調整を必要とせず,雰囲気制御アタッチメントを利用した条件でも使用できます。
弹簧锁
三个光学
LYNXEYE XE-T
涡轮x射线源(txs)
montel光学系搭載iμsマ
捻管
アプリケション
プレミアムクラスx線回折装置
薄膜解析
X線回折(XRD)は積層構造を有する薄膜サンプルにおいて非破壊評価を成し遂げる重要な役割を果たします。D8发现とDIFFRAC.SUITEソフトウェアは、薄膜XRD解析において測定や解析を簡単に実現します。
- 結晶相同定や結晶子サイズ・結晶子歪などの微構造解析を,より表面敏感に実施するすれすれ入射X線回折(GID)
- 単層膜,積層膜から複雑な超格子薄膜構造にいたるあらゆる薄膜サンプルにおける膜厚,表面/界面ラフネス,密度,密度プロファイルを得るX線反射率測定(XRR)
- エピタキシャル成長薄膜サンプルにおける詳細構造解析を成し遂げる高分解能X線回折(HRXRD):膜厚,格子歪,格子ミスマッチ,緩和率,モザイク性,混晶材料の組成分析
- 残留応力解析と優先配向·結晶方位解析
材料研究
材料の構造情報と物理特性を結びつけることができるXRDは,材料研究におけるもっとも重要な分析アプローチのひとつです。その点において，d8发现は，まさに材料研究のフラッグシップxrd装置といえます。最先端技術にもとづく各種コンポーネントを搭載するD8发现は,最高の性能とフレキシブルさを兼ね備え,多くの研究者に材料の詳細な構造解析結果をもたらします。
- 結晶相同定と結晶構造決定
- 結晶子サ邮箱ズや結晶子歪を含む微構造解析
- 残留応力解析，結晶配向·集合組織解析
- μmサズ入射X線を用いた微小部XRD分析(μXRD)
- 逆格子空間マッピング
スクリニングと広範囲マッピング
D8发现はハイスループットスクリーニング(高温超导)や大型サンプルの広範囲マッピングに最適なソリューションです。大型サンプル対応联电ステージは,D8发现を広い可動範囲と対応重量の両面で他の追随を許さないサンプルハンドリングをご提供します。
- 反射法/透過法両対応ウェルプレトのハスルプットスクリニング(hts)
- 最大300mmサesxiズサンプルのX/Yマッピング
- 最大5公斤のサンプルのX/Yマッピング
- 自動化邮箱ンタ邮箱フェ邮箱ス
アプリケアプリケションギャラリ
残留応力解析
2d検出器を用いたμxrd
結晶相定性:阶段ID
ハスルプットスクリニング(hts)
雰囲気制御XRD
小角x線散乱(萨克斯)
広角x線回折(waxd)
結晶配向解析
X線反射率測定(xrr)
高分解能x線回折(hrxrd)
ウェハマッピング·x / yマッピング
逆格子空間マッピング(rsm)
仕様
D8发现仕様
| 仕様 | 利益 | |
| 捻管 | ラ邮箱ン焦点とポ邮箱ント焦点の迅速な切り替え機構 対応波長:Cr, Co, Cu, Mo, Ag 最大印加出力:3 kW(波長による。フィラメントサernズ:0.4×12㎜²時) 特許:ep 1 923 900 b1 |
異なるアプリケションに最適なx線波長を迅速に交換 広いアプリケションに最適な結果をもたらすラント焦点を高速に切り替え |
| マ操作系统管理员クロフォ操作系统管理员カスx線源操作系统管理员 | 最大印加出力:50 w 蒙特尔または蒙特尔+光学系:平行ビムまたは集光ビム 最小ビ2 最大フラックス:8×10系统性系统性检出检出(多層膜ミラ出口) 最小ビム発散角:0.5 mrad |
高い輝度と低いバックグラウンドを両立するmmサereplicationズビム 低消費電力，完全空冷，長寿命を実現するグリ 最高の結果に導く最適なビム形状とビム発散 |
| 涡轮x射线源(txs) | 微小ラesc节点ン焦点:0.3×3 mm² 焦点輝度:6 kW/ mm² 対応波長:Cr, Co, Cu, Mo 最大印加電圧:50 kV,最大印加出力は波長による(Cr: 3.2 kW,铜/钼:5.4 kW,答:2.8千瓦) フィラメント:プリアラ邮箱ンタングステン |
セラミックス封入管球比最大5倍の強度 ラopenstackンビopenstackムおよびポopenstackントビopenstackムアプリケopenstackションに最適 速やかな交換と光学系再調整を最小化するプリアラ邮箱ンフィラメント |
trio光学系 |
ソフトウェア按钮切り替え: 電動可変発散スリット(Bragg-Brentano集中法光学系) 高強度平行ミラ1、2平行ビム光学系) Ge(004) 2結晶モノクロメタ(Kα1高分解能平行ビム光学系) 特許:us10429326, us6665372, us7983389 |
電動モタ制御により3の発散スリットモ2の平行ビ 非晶質,結晶質,エピタキシャル薄膜にかかわらず,粉末サンプル,バルクサンプル,繊維サンプル,フィルムサンプル,薄膜サンプルなどのあらゆるサンプルに最適 |
| 高分解能結晶モノクロメ高分解能結晶モノクロメタ | 葛(220)および葛(004)(非対称カット，対称カット) 2結晶モノクロメタおよび4結晶モノクロメ(巴特尔配置) snap-lock機構により載せ替え時の光学系アラメント不要 |
最適な結果に応じた分解能と強度のバランス 異なるサンプルタ邮箱プに幅広く対応する迅速なモノクロメ邮箱タ邮箱交換機構 |
| d8ゴニオメタ | 光学エンコダ付ステッピングモタ制御2軸ゴニオメ | bob电竞安全吗布鲁克独自のアラ，メント保証により，他に類を見ない精度と確度を実現 メンテナンスフリドラ |
| umcサンプルステジ | 最大X/Y並進軸可動範囲:±150 mm 最大Z並進軸可動範囲:50 mm 最大Phi回転軸可動範囲:無制限 最大Psi傾斜軸可動範囲:-5°~ +55° 最大荷重:50公斤(中心位置のみ) |
サンプル重量とサンプルサ邮箱ズを最大限拡張可能 オダメドの大型サンプルチャンバなどにも対応 |
| 中心为ユレリアンクレドル | 最大X/Y並進軸可動範囲:±40 mm 最大Z並進軸可動範囲:3毫米 最大Phi回転軸可動範囲:無制限 最大Psi傾斜軸可動範囲:-11°~ +98° 最大荷重:1公斤 各種サンプルホルダに対応 |
Psi傾斜軸を用いた残留応力測定や極点図測定に対応 x / y軸を用いた自動マッピング機能 2 .軸制御倾斜台による精緻な表面アラ(オプション) 粉末x線回折用サンプルスピナ/キャピラリ |
| 探路者+光学系 | 自動減衰板搭載ソフトウェア按钮切り替え: 電動可変スリット Ge(220) 2結晶アナラeconfザ |
電動モタ制御により2 lynxeye検出器シリズ，eiger2検出器対応 |
| Lynxeye xe-t検出器 | 最高エネルギ分解能:< 380 eV @ 8 keV(25°C，半値幅) 検出モド:0d, 1d, 2d 対応波長:Cr, Co, Cu, Mo, Ag 特許:ep1647840, ep1510811, us20200033275 |
Bragg-Brentano集中法光学系,POLYCAP平行ビーム光学系においてKβフィルターや受光側モノクロメーターは不要 Cu波長では鉄系サンプルからの蛍光X線を100%除去可能 従来の0次元検出器搭載システムと比較して，最大450倍高速測定を実現 Bragg-2D:発散ラ 検出器保証:不感素子なし(納品時) |
| eiger2検出器 | 最新のハイブリッドフォトンカウンティング(HPC)技術にもとづくマルチモード検出器(0 d / 1 d和2 dモード) | 0 d, 1 d, 2 d検出モードを用いたスナップショット,ステップスキャン,連続スキャン,アドバンスドスキャンのシームレスな統合 2θまたはγ方向の記録領域を最大化する人間工学にもとづいた検出器搭載方向切り替え機構 パノラミック光学系は工具を用いることなく広い回折情報の記録を実現 自動検出機距離認識機構により，測定目的に応じて測定記録範囲と角度分解能のバランスを両立 |
| 雰囲気制御アタッチメント | 制御温度範囲:-260°c ~ +2000°c 制御圧力範囲:10 -⁴mbar ~ 100条(7.5×10 -⁴托~ 7.5×10⁴托) 制御湿度範囲: 5% ~ 95% (相対湿度) |
大気雰囲気および雰囲気制御下における分析 DIFFRAC。达芬奇によるステジモニタと制御 |
アクセサリ
XRD组件
bob电竞安全吗Bruker XRD溶液由高性能组件组成，以满足分析要求。模块化设计是配置最佳仪器的关键。
所有类别的组件都是Bruker的关键能力的一部分，由Bruker AXS开发和制造bob电竞安全吗，或与第三方供应商密切合作。
bob电竞安全吗布鲁克x射线衍射组件可用于升级安装的x射线系统，以提高其性能。
ソフトウェア
ウェビナ
詳細
D8发现リソス
アプリケションノト，レポト，プロダクトシト
- 药品的快速XRD分析:EIGER2 R 500K的一维和二维快照模式
- EIGER2 R 500K的大面积RSM: InxGa1-xN LED、GaAs和Si1-xGex外延薄膜的分析
- μXRD在EIGER2 R 500K地质中的应用:美国佐治亚州格雷夫斯山青柳石的原位研究
- 用EIGER2 r500k: 0D、1D、2D法研究硅表面多晶钨涂层的残余应力
- 用eiger2r500k和DIFFRAC进行纹理分析。纹理: Investigation of Rolled and Drawn Aluminum Sheets
- D8 DISCOVER with IμS， μXRD相映射
- D8 DISCOVER with IμS微聚焦源，面内掠入射衍射(IP-GID)
- D8发现与IμSHigh华晨微焦点源，x射线反射
サポト
サビスとサポト
以下を提供します。
- 高度なスキルを持つトラブルシューティングの専門家によるヘルプデスクのサポートにより,ハードおよびソフトウェアの問題を特定して解決
- サビス診断およびアプリケションサポトのためのWebベビス
- マジされたリアリティサポト-あなたの側の仮想エンジニア(ビデオ）
- 計画メンテナンス(要件に応じて)
- お客様の現場修理·保守サビス
- スペアパの可用性は，通常，夜間または世界中の数営業日以内に利用可能
- 設置資格，運用資格/性能検証のためのコンプラアンスサビス
- サ邮箱トの計画と再配置
- 次のトレニングコスを見ける
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